集材院｜追踪材料的“呼吸轨迹”——热脱附质谱仪TDS宣传片
你知道吗？在材料表面，可能潜藏着许多“隐形囚徒”——氢分子、水分子或其他吸附物质，它们对材料性能有着不可忽视的影响，虽然被束缚在材料之中，但也能在加热时发生“越狱”。 而科学家们，正用一项精密技术——TDS（热脱附质谱仪），揭开这一切的秘密。
TDS（热脱附质谱仪），是一项在超高真空环境下，通过红外线非接触加热使样品发生脱附，并借助四极杆质谱仪对释放出的物质进行定性定量分析的技术。它不仅能够识别脱附物质的种类，还能测量脱附速率，从而全面解析材料中吸附、扩散与脱附的微观行为。TDS就像是用真空和温度作为钥匙，打开材料表面最隐秘的分子牢笼，让那些“隐形囚徒”无处遁形。
上海集成电路材料研究院的TDS设备，正是解锁材料微观密码的“利器”。它的应用场景远超想象，既能深入研究H₂、H₂O、CO₂等物质在材料中的扩散、吸附、脱附行为，帮助理解表界面现象、缺陷分布及微观机理；又能精准识别工艺污染、区分不同工艺间的差异，为优化工艺参数、提升产品质量提供数据支撑。
表 界 面 现 象
缺 陷 分 布
微 观 肌 理
更值得一提的是，它的“兼容性”拉满——无论是硅、碳化硅、氮化镓等半导体材料，还是石英、金属、粉末样品等特殊材质，都能提供的TDS实验设计、测试与分析服务，全方位覆盖集成电路材料领域的研究与生产需求。
硅
碳化硅
氮化镓
石英
金属
粉末
无论是想深入了解TDS的技术原理，还是有样品测试的实际需求，上海集成电路材料研究院都是你的优质之选。这里的专业设备与技术团队，能为你提供精准、全面的微观检测服务。想探索更多TDS的功能与应用场景，或预约样品测试，可访问下方集材检测网或联系我们，携手解锁材料微观世界的无限可能。